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 现行标准检索 |
| 标准编号 |
YS/T 935-2013 |
标准名称 |
电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南 |
| 英文名称 |
Standard guide for analysis and reporting the impurity content and grade of high purity metallic sputtering targets for electronic thin film applications |
代
替 号 |
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| 采用标准 |
ASTM F2113-01(2011)，NEQ |
| 归口单位 |
有研亿金新材料股份有限公司 |
| 起草单位 |
全国有色金属标准化技术委员会 |
分
类 号 |
H68 |
国际分类号 |
77.150.99 |
发布日期 |
2013-10-17 |
实施日期 |
2014-03-01 |
| 内容介绍 |
本标准规定了电子薄膜制备用高纯金属溅射靶材的纯度等级的定义方法、杂质含量分析方法、抽样规则及靶材纯度等级报告标准规范等内容。
本标准适用于电子薄膜用各类高纯金属溅射靶材。其他对纯度有较高要求的靶材纯度等级、杂质含量分析及报告规范也可参照使用。 |
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