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 现行标准检索 |
| 标准编号 |
YS/T 718-2009 |
标准名称 |
平面磁控溅射靶材 光学薄膜用铌靶 |
| 英文名称 |
Flat magneting sputtering target-Niobium target for optical coating |
代
替 号 |
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| 采用标准 |
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| 归口单位 |
全国有色金属标准化技术委员会 |
| 起草单位 |
利达光电股份有限公司 |
分
类 号 |
H63 |
国际分类号 |
77.150.99 |
发布日期 |
2009-12-04 |
实施日期 |
2010-06-01 |
| 内容介绍 |
本标准规定了平面磁控溅射光学薄膜用铌靶材的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及订货单（或合同）内容。
本标准适用于平面磁控溅射光学薄膜用铌靶材。 |
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