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 现行标准检索 |
| 标准编号 |
YS/T 1025-2015 |
标准名称 |
电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材 |
| 英文名称 |
High-purity tungsten and tungsten alloy sputtering target used in electronic film |
代
替 号 |
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| 采用标准 |
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| 归口单位 |
全国有色金属标准化技术委员会 |
| 起草单位 |
宁波江丰电子材料股份有限公司、北京天龙钨钼科技股份有限公司、有研亿金新材料有限公司、株洲凯特实业有限公司、西安方科新材料科技有限公司 |
分
类 号 |
H63 |
国际分类号 |
77.150.99 |
发布日期 |
2015-04-30 |
实施日期 |
2015-10-01 |
| 内容介绍 |
本标准规定了电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输存贮、订货单（或合同）等内容。
本标准适用于电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材，简称高纯钨及钨合金靶。 |
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